Plasma-Emissionsmessung
Eine objektive und
kontinuierliche Prozessüberwachung von Niederdruck-Plasmaanlagen, wie z.B.
bei der PVD (Physical Vapor Deposition), ist immer noch
eine der großen Aufgabenstellungen in der Betriebsmesstechnik. Neben der
gemeinhin üblichen visuellen Begutachtung des Plasmas wird häufig die
Massenspektroskopie eingesetzt. Speziell die Massenspektroskopie ist jedoch
schwer zu handhaben und die Messergebnisse sind nicht leicht zu
interpretieren. Verglichen mit diesen Methoden liegen die Vorteile der OES (Optische
Emissions Spektroskopie) unter Verwendung unserer
Lichtleiter-gekoppelten TranSpec-DSP
Spektrometer klar auf der Hand:
-
Simultane
Emissionsmessung im Spektralbereich 200-1000 nm
-
Extrem schnelle
Messung - im Millisekundenbereich
-
Erfassung auch
geringster Emissions-Strahlungleistung
-
Via Flansch
an praktisch jeden Rezipienten anschliessbar
-
Wartungsfreie und
einfach zu handhabende Technologie
-
Komfortable System-Software
TranSpec 2000
|
